钨铜合金的硬度与钨含量呈显著正相关关系,具体表现为钨含量越高合金整体硬度越大(钨作为硬质相提供主要强化作用),铜含量越高则硬度越低(铜作为软质相降低整体强度)。以下是具体影响机制及数据对比:
一、硬度与钨含量的定量关系
基础规律
钨含量≥70%时:硬度随钨含量提升急剧增大。例如:
CuW70(70%钨):硬度约 HV 184–185(常规态)或 HV 220–280(退火态),冷加工后可达 >300 HV1519。
CuW75(75%钨):硬度 ≥195 HB(布氏硬度),高性能产品可达 HB 220以上15(相当于 HV 350–4505)。
CuW90(90%钨):硬度 ≥260 HB(布氏硬度),抗弯强度显著提升12。
粘结相(铜)的影响:铜含量每降低5%,硬度平均提升约 3–5 HRC(洛氏硬度)29。例如钨含量从90%升至97%时,硬度从24–28 HRC增至28–36 HRC2。
典型合金硬度对比表
合金牌号 钨含量 实测硬度范围 单位
CuW70 70% HV 184–185 (常规) HV
HV 220–400 (强化态) HV 1315
CuW75 75% HB 195–220+ HB 15
CuW90 90% HB ≥260 HB 12
二、影响机制的核心因素
钨的硬质相作用
钨熔点高(3410℃)、本征硬度高(纯钨硬度约 HV 350–400),在合金中形成刚性骨架,抵抗塑性变形321。
高钨含量(>80%)时,钨颗粒形成连续网络结构,直接提升整体抗压强度811。
铜的软化效应
铜相(熔点1080℃)填充钨颗粒间隙,但过量铜(>30%)会降低位错运动阻力,削弱硬度314。
铜含量每增加10%,硬度下降约 15–20%911。
工艺的调控作用
冷加工:通过塑性变形(如轧制、拉拔)可使CuW70硬度从HV 220提升至>300 HV19。
粉末冶金工艺:高速压制、熔渗技术可减少孔隙率,提高致密度,使CuW75硬度突破HB 22015。
三、应用场景与成分选择建议
高硬度需求场景(电火花电极、高压电触头):
优选 CuW75–CuW90(硬度>195 HB),利用高钨含量抗电弧烧蚀14。
平衡硬度与加工性(电子封装片、散热基板):
选择 CuW70–CuW75(硬度HV 184–450),兼顾导热性(导电率>40% IACS)1316。
注:实际选材需结合工况——高温环境需高钨含量(如CuW90在>1500℃仍保持稳定性)13,而需精密加工时可选铜含量稍高的CuW7019。
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